电阻蒸发\电子枪\磁控(射频、直流、中频)镀膜设备。是我公司专门为实验设计的小型设备，适合大学、科研院所使用。该设备分别配备电子枪镀膜室及磁控溅射镀膜室，共用一套F-250/1500真空系统。电子枪用于难熔金属、非金属材料以及高纯度薄膜的真空蒸镀，磁控溅射靶用于制备可以做成靶材的金属，金属氧化物、碳化物、合金等的薄膜。整个设备全部采用不锈钢材，极限真空压力达到10-4Pa量级，其中在射频磁控溅射镀膜系统中有两只Φ50圆形平面靶安装于镀膜室底部，可镀多层膜、复合膜及高能电子表面处理。两只磁控靶可配备DC或RF电源，在薄膜研究纳米材料研究、微电子、纳电子以及传感器研究领域得到广泛应用，是理想的科研设备。
主要技术参数
注：以上参数仅供参考，全部可按客户要求定做。